退火对EBE,IBS和ALD沉积HfO2薄膜的抗激光损伤性能影响

• 作者: 刘浩 蒲云体 赵祖珍 马平
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 关键词: HfO2薄膜 激光损伤阈值 电子束蒸发 离子束溅射 原子层沉积
• 年，卷（期）: 2020,（7）
• 所属期刊栏目: 强激光物理与技术
• 页码范围: 7-14
• 页数: 8页
• 字数: 4841字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB202032.200006

摘要

结合自身实验条件采用电子束蒸发(EBE)、离子束溅射(IBS)和原子层沉积(ALD)三种工艺制备了HfO2薄膜,对其进行退火实验,采用1064 nm Nd:YAG激光测定了即时沉积和退火后各HfO2薄膜的抗激光损伤能力.研究发现,ALD HfO2薄膜的激光损伤阈值最高,EBE HfO2薄膜次之,IBS HfO2薄膜的损伤阈值最低;300℃退火对各工艺薄膜抗激光损伤能力的影响均为负面,500℃退火则会显著降低ALD HfO2薄膜的抗激光损伤能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵祖珍		2	1	1.0	1.0
2	马平	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	5	47	2.0	5.0
3	蒲云体	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	2	2	1.0	1.0
4	刘浩		1	0	0.0	0.0