退火温度对HfO2薄膜应力和光学特性的影响

• 作者: 吴福全 吴闻迪 王庆 郝殿中 齐瑞云
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 HfO2薄膜 残余应力 退火 微结构 折射率
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 激光材料和光学元件
• 页码范围: 182-184,188
• 分类号: O484.4
• 字数: 2028字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2011.02.011

摘要

为了研究退火温度对HfO2薄膜应力、光学常数和表面粗糙度的影响,采用电子枪蒸镀法制备了薄膜样品,在不同温度下进行了退火处理.利用ZYGO干涉仪、UV-3101PC分光光度计、X射线衍射仪和冷场发射扫描电镜对样品进行了测试.结果表明,在本实验条件下制备的HfO2薄膜都是无定形结构;残余应力均为张应力,且随退火温度的升高呈先减小后增大现象,在300℃退火条件下具有最小应力;HfO2薄膜折射率随退火温度的升高而增大,并且色散减小;低温退火可以提高HfO2薄膜的平整度,高温退火反而会使HfO2薄膜表面粗糙度增加.这些结果可以为制备高质量HfO2薄膜提供参考.