沉积温度对HfO2薄膜残余应力的影响

• 作者: 申雁鸣 范正修 贺洪波 邵建达 邵淑英
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: HfO2薄膜 残余应力 沉积温度 微结构 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1812-1816
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3549字
• 语种: 中文

摘要

用电子束蒸发方法制备了HfO2薄膜,根据镀膜前后基片曲率半径的变化,用Stoney公式计算了薄膜应力,讨论了沉积温度对薄膜残余应力的影响.结果发现,HfO2薄膜的残余应力均为张应力,应力值随沉积温度的升高先增大后减小,在280℃左右出现极大值.对样品进行了XRD测试,从微观结构上对实验结果进行了分析,发现微结构演变引起的内应力变化是引起薄膜残余应力改变的主要因素,HfO2薄膜在所选沉积温度60～350℃内出现了晶态转变,堆积密度随温度升高而增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	贺洪波	中国科学院上海光学精密机械研究所	48	491	16.0	19.0
4	邵淑英	中国科学院上海光学精密机械研究所	18	309	9.0	17.0