原子层沉积HfO2薄膜的激光损伤特性分析

• 作者: 卫耀伟 潘峰 王震
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 惯性约束聚变 强激光系统 原子层沉积 激光损伤阈值 HfO2薄膜
• 年，卷（期）: 2015,（5）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 103-107
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3735字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201527.052004

摘要

以目前激光惯性约束聚变中应用最广泛的高折射率材料二氧化铪(HfO2)为研究对象,在熔石英基底上分别采用TEMAH和HfCl4前驱体制备了HfO2薄膜,沉积温度分别为100,200和300℃.采用椭偏仪和激光量热计对薄膜的光学性能进行了测量分析,采用X射线衍射仪(XRD)对薄膜的微结构进行了测量.最后在小口径激光阈值测量平台上按照1-on-1测量模式对薄膜的损伤阈值进行了测试,并采用扫描电子显微镜(SEM)对损伤形貌进行了分析.研究表明,用同一种前驱体源时,随着沉积温度升高,薄膜折射率增加,吸收增多,损伤阈值降低.在相同温度下,采用有机源制备的薄膜更容易在薄膜内部形成有机残留,导致薄膜吸收增加,损伤阈值降低.采用HfCl4作为前驱体源在100℃制备氧化铪薄膜时,损伤阈值能够达到31.8 J/cm2(1064 nm,3 ns).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卫耀伟	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	3	4	1.0	2.0
2	王震	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	4	7	1.0	2.0
3	潘峰	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	3	10	2.0	3.0