基频HfO2/SiO2高反射薄膜激光损伤生长特性

• 作者: 张艳云 焦宏飞 程鑫彬 马宏平 马彬
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: HfO2/SiO2高反射薄膜 分层剥落 损伤生长 激光损伤阈值 横向尺寸
• 年，卷（期）: 2013,（9）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 2275-2280
• 页数: 6页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3279字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20132509.2275

摘要

以1064 nm波长作用下的HfO2/SiO2高反射薄膜为研究对象,研究了高反射薄膜在损伤生长过程中分层剥落初始损伤结构的变化规律、损伤形貌特征和损伤生长阈值等特性.实验结果表明:分层剥落初始损伤结构的横向尺寸随激光能量密度的增加呈分段线性增长,破斑沿纵向拓展的损伤生长阈值是沿横向拓展的损伤生长阈值的2倍以上,初始损伤结构横向尺寸的生长率与能量密度呈指数关系,且生长阈值随着辐照次数的增加显著降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程鑫彬	同济大学精密光学工程技术研究所	12	52	4.0	7.0
2	焦宏飞	同济大学精密光学工程技术研究所	20	53	4.0	6.0
4	张艳云	同济大学精密光学工程技术研究所	2	8	2.0	2.0
8	马彬	同济大学精密光学工程技术研究所	13	114	6.0	10.0
12	马宏平	同济大学精密光学工程技术研究所	3	18	2.0	3.0