用1064nm激光增强HfO2/SiO2薄膜的抗激光损伤能力的实验研究

• 作者: 胡建平 许乔 马平
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 激光损伤 激光预处理 HfO2/SiO2高反膜
• 年，卷（期）: 2003,（11）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 1053-1056
• 页数: 4页
• 分类号: TN246
• 字数: 1822字
• 语种: 中文

摘要

用1 064nm激光实验研究了HfO2/SiO2薄膜的激光损伤增强效应,实验以薄膜激光损伤阈值70%的激光能量开始,采用N-ON-1方式处理薄膜,激光脉冲的能量增量为5J/cm2.实验结果表明,激光处理薄膜表面能使激光损伤阈值平均提高到3倍左右,并且薄膜的损伤尺度也明显减小.对有缺陷的薄膜,其缺陷经低能量激光后熔和消除,其抗激光损伤能力得到增强,但增强得并不显著,而薄膜本身的激光预处理,可以使其激光损伤阈值大大提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许乔		82	1074	17.0	27.0
2	胡建平		22	276	10.0	16.0
3	马平		54	355	11.0	15.0