电子束蒸发制备HfO2薄膜的性能研究

• 作者: 吴师岗 张红鹰 杜健
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 物理学
• 关键词: HfO2薄膜 X射线衍射 透射光谱 薄膜结构 光学性能
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 试验与技术
• 页码范围: 1256-1258,1263
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 1320字
• 语种: 中文

摘要

用电子束蒸发方法沉积HfO2薄膜,用X射线衍射和透射光谱测定HfO2薄膜的结构特征和光学性能,并测定薄膜的弱吸收和损伤阈值.结果表明:HfO2薄膜在沉积温度为350℃时,达到了较好的结晶程度.在可见光和近红外光区具有很高的透过率;HfO2薄膜的损伤阈值比较高,达到10.5 J/cm2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴师岗	山东理工大学化学工程学院	8	14	2.0	3.0
2	张红鹰	山东理工大学化学工程学院	12	30	4.0	5.0
3	杜健		3	11	2.0	3.0