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摘要:
采用电子束蒸发法,以高纯CdS块料为膜料在玻璃基底上制备了CdS薄膜,设计了L9(34)正交实验,研究了各工艺参数对薄膜光电性能的影响.结果表明,随着基底温度,蒸发速率的提高,薄膜的电阻值呈降低趋势达到最小值后稍有升高;薄膜的阻值随真空度的降低而降低,达到一定程度后阻值基本保持不变.薄膜的暗亮电阻比即光敏性,随基底温度的增大先增大达到最大值后开始减小;而随蒸发速率的提高光敏性先缓后急的增加;真空度对光敏性的影响与蒸发速率对光敏性的影响正好相反,表现为随真空度的增加光敏性先急后缓的降低.正交实验表明:当基底温度为150℃,蒸发速率为1 nm·s-1,真空度为3×10-3 Pa时,薄膜的光电性能最好.CdS薄膜的光敏性达到7.7×102,其中亮电阻的最小值为1350Ω/□.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 电子束蒸发法制备CdS薄膜光电特性研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 CdS薄膜 电子束蒸发法 正交实验 光电性能
年,卷(期) 2014,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 1137-1143
页数 7页 分类号 O484
字数 3291字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 董连和 长春理工大学光电工程学院 45 151 7.0 11.0
2 孙艳军 长春理工大学光电工程学院 36 106 6.0 9.0
3 冷雁冰 长春理工大学光电工程学院 34 117 6.0 10.0
4 陈哲 长春理工大学光电工程学院 12 45 3.0 6.0
5 王丽 长春理工大学光电工程学院 32 34 3.0 4.0
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人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
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