射频磁控溅射和电子束蒸发制备ZnO薄膜特性的比较

• 作者: 张建民 高立
• 来源期刊: 陕西师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 电子束蒸发沉积 ZnO薄膜
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 23-27
• 页数: 5页
• 分类号: O482.4
• 字数: 2981字
• 语种: 中文

摘要

利用射频磁控溅射(Radio frequency-magnetro sputtering,RF-MS)和电子束蒸发(Electron beam evaporation,E-BE)方法制备ZnO薄膜,并对两种方法制备的薄膜在400、450和500℃退火后的微观结构、光学与电学性能进行比较.结果表明,RF-MS比E-BE制备的ZnO薄膜的晶粒细小且均匀,表面粗糙度小.两种方法制备的ZnO薄膜的平均透光率均大于80%,且随温度升高均表现出禁带宽度变小以及在380 nm附近出现近带边发射和绿光发射现象.此外,E-BE比RF-MS制备的ZnO薄膜的电阻率小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张建民	陕西师范大学物理学与信息技术学院	91	480	12.0	19.0
2	高立	陕西师范大学物理学与信息技术学院	3	34	2.0	3.0