电子束蒸发法制备Co/Ru多层膜的微观结构与磁电阻

• 作者: 郝安林
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 多层膜 微观结构 磁电阻 电子束蒸镀
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 832-838
• 页数: 7页
• 分类号: TG113.22
• 语种: 中文

摘要

采用电子束蒸发法制备具有不同Co层厚度的Co/Ru多层膜。采用X射线衍射(XRD)、高分辨透射电镜(HRTEM)、扫描电镜(TEM)等对多层膜的微观结构进行观察与分析，研究多层膜微观结构对多层膜磁阻性能的影响，并探讨多层膜磁阻的产生机理。结果表明：Co层的厚度tCo对于薄膜的微观结构和磁阻性能有很大影响，当tCo≥0.8 nm时Co/Ru多层膜以层状方式连续生长，且tCo越大，薄膜结晶越完整，薄膜呈现负磁阻效应；当tCo=0.5 nm时，Co/Ru多层膜为岛状生长，Co/Ru界面的不对称性使得薄膜出现正磁阻效应。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郝安林		17	41	4.0	5.0