电子束蒸发法制备MoO3薄膜及其性质研究

• 作者: 朱兴华 杨定宇 杨维清 魏昭荣
• 来源期刊: 电子科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 晶体结构 电子束蒸发 MoO3薄膜 表面形貌 紫外-可见透过谱
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 电子信息材料与器件
• 页码范围: 933-936
• 分类号: TB34
• 字数: 3322字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-0548.2011.06.024

摘要

采用电子束蒸发法在玻璃衬底上制备MoO3薄膜.X射线衍射谱表明制备样品属于正交晶系,沿<010>晶向择优取向生长.随着衬底温度的升高,样品的晶粒尺寸先增大后减小,退火后又增大.此外,样品的(040)衍射峰随衬底温度升高单调向低衍射角方向移动.扫描电镜照片显示制备样品具有针状晶粒特征,退火后晶粒大小的分布趋于均匀.紫外-可见透过谱测试发现,随衬底温度的升高,一方面样品的光吸收边向长波方向移动,透过率降低；另一方面,样品的光学带隙由100℃时的2.93 eV降为300℃时的2.59 eV,经过500℃大气氛围下退火后,光学带隙减小至2.46 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱兴华	成都信息工程学院光电技术学院	32	98	6.0	7.0
2	杨定宇	成都信息工程学院光电技术学院	39	148	6.0	9.0
3	杨维清	成都信息工程学院光电技术学院	9	16	3.0	3.0
4	魏昭荣	成都信息工程学院光电技术学院	16	39	3.0	5.0