电子束蒸发和离子束溅射HfO2紫外光学薄膜

• 作者: 李春 邓文渊 金春水
• 来源期刊: 中国光学与应用光学
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜光学 电子束蒸发 离子束溅射 高反射镜 X射线衍射术 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 630-636
• 分类号: O484.4
• 字数: 4262字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-1531.2010.06.014

摘要

HfO2薄膜在紫外光学中具有十分重要的地位,不同方法制备的HfO2薄膜特性不同,可以满足不同的实际应用需求.本文分别利用电子束蒸发和离子束溅射方法制备了用于紫外光区域的HfO2薄膜,并对薄膜的材料和光学特性进行了表征与比较.通过对单层HfO2薄膜的实测透射和反射光谱进行数值反演,得到了HfO2薄膜在230～800 nm波段的折射率和消光系数色散曲线,结果表明两种方法制备的HfO2薄膜在250 nm的消光系数均小于2×10-3.在此基础上,制备了两种典型的紫外光学薄膜元件(紫外低通滤波器和240 nm高反射镜),其光谱性能测试结果表明,两种不同方法制备的器件均具有较好的光学特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李春	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	30	317	10.0	17.0
2	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	56	202	9.0	11.0
3	邓文渊	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	20	187	7.0	13.0