电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响

• 作者: 李庆国 王英剑 范正修
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 电子束 离子辅助 离子束溅射 薄膜特性
• 年，卷（期）: 2003,（9）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 841-844
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2860字
• 语种: 中文

摘要

运用电子束、离子辅助和离子束溅射三种镀膜工艺分别制备光学薄膜,包括单层氧化物薄膜和增透膜,然后采取一系列测试手段,如Zygo轮廓仪、原子力显微镜、表面热透镜技术和X射线衍射等技术,来分析和研究不同的工艺对这些薄膜性能的不同影响,以判断合理的沉积工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
2	王英剑	中国科学院上海光学精密机械研究所	21	254	11.0	15.0
3	李庆国	中国科学院上海光学精密机械研究所	5	84	4.0	5.0