沉积方式对HfO2薄膜激光损伤阈值的影响

• 作者: 张贵彦 袁宏韬 阚珊珊
• 来源期刊: 华中科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化铪薄膜 激光损伤阈值 物理汽相沉积
• 年，卷（期）: 2007,（z1）
• 所属期刊栏目: 激光科学与技术
• 页码范围: 108-111
• 页数: 4页
• 分类号: TN244
• 字数: 3421字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2007.z1.030

摘要

分别采用电子束蒸镀、离子束辅助沉积、离子束反应辅助沉积、双离子束溅射技术制备了二氧化铪薄膜,研究了薄膜的光学特性、缺陷、残余应力、弱吸收和抗激光损伤阈值.发现离子束反应辅助沉积的二氧化铪薄膜具有低的缺陷密度和高的损伤阈值;双离子束溅射的二氧化铪薄膜具有高的折射率、高的残余应力和低的损伤阈值.对二氧化铪薄膜的损伤阈值与上述特性之间的依赖关系进行了讨论,发现残余应力是影响薄膜抗激光损伤阈值的一个重要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阚珊珊	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	11	43	4.0	6.0