后处理对HfO2薄膜光学特性及抗激光损伤阈值的影响

• 作者: 吴倩 潘峰 罗晋
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: HfO2薄膜 镀膜技术 后处理 薄膜参数测量 薄膜光学特性 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 高功能激光光学元器件
• 页码范围: 3000-3004
• 页数: 5页
• 分类号: O484.41
• 字数: 2560字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20162412.3000

摘要

利用电子束蒸发技术制备了氧化铪薄膜,并分别用氧气氛下退火和激光预处理两种后处理方法对样品进行了处理.介绍了两种后处理工艺和相关的设备,测试分析了样品的透过率、吸收和抗激光损伤阈值.对比了两种后处理方法对降低吸收和提高激光损伤阈值的效果,讨论了它们的作用原理.实验结果表明,激光预处理能有效降低样品的吸收值,提高样品的抗激光损伤阈值.采用一步法(50％初始损伤阈值)预处理后,三倍频氧化铪薄膜的损伤阈值从13 J/cm2提升到15 J/cm2;采用两步法(依次50％、80％初始损伤阈值)预处理后,三倍频氧化铪薄膜的损伤阈值从13 J/cm2提升到17.5 J/cm2,损伤几率曲线整体向高通量区域平移.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗晋		11	83	5.0	9.0
2	潘峰		11	33	3.0	4.0
3	吴倩		5	13	2.0	3.0