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摘要:
基于氧空位在金属氧化物内部迁移的微观机理,利用蒙特卡罗方法建立了一种新型的可模拟金属氧化物介质时变击穿的模拟工具.利用建立的模拟工具研究了界面形成氧空位迁移功函数对介质层击穿行为的影响.该工具可应用于金属氧化物半导体晶体管栅介质击穿研究并准确评估其可靠性.
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文献信息
篇名 氧空位迁移造成的氧化物介质层时变击穿的蒙特卡罗模拟
来源期刊 物理学报 学科
关键词 氧空位 蒙特卡罗 氧化物介质 模拟
年,卷(期) 2017,(21) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 357-363
页数 7页 分类号
字数 语种 中文
DOI 10.7498/aps.66.217701
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 栗苹 北京理工大学机电学院 95 508 11.0 16.0
2 许玉堂 北京理工大学机电学院 5 15 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
氧空位
蒙特卡罗
氧化物介质
模拟
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
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相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
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