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浸没式光刻系统中光束扩束系统的设计
浸没式光刻系统中光束扩束系统的设计
作者:
李美萱
王美娇
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
浸没式光刻
光束扩束
光学设计
摘要:
在超大规模集成电路中,为了满足45nm节点光刻曝光光学系统对高分辨率的要求,设计了一种光束扩束系统,用于提高照明系统的均匀性。由于准分子激光器在水平和垂直方向上光束发散角有较大差异,从激光器到照明系统的传输光路最长达20m,垂直方向激光最大发散角达到2.1mrad,若不对出射的激光束进行准直,则激光传输20m后,激光光斑尺寸将达到54.5mm以上,这对后续的系统设计都是不利的,因而必须首先对激光器出射光束进行准直,然后再传输。通过调节X向柱面镜与Y向柱面镜之间的距离,即第一光学面(球面镜前表面)到Y方向柱面镜后表面距离调整为122.058mm时消除了这种影响,保证输出光束满足指标要求。
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篇名
浸没式光刻系统中光束扩束系统的设计
来源期刊
科学中国人
学科
工学
关键词
浸没式光刻
光束扩束
光学设计
年,卷(期)
2017,(3X)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
38-38
页数
1页
分类号
TN405
字数
语种
DOI
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姓名
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被引次数
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G指数
1
王美娇
长春理工大学光电信息学院
24
38
3.0
5.0
2
李美萱
长春理工大学光电信息学院
22
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光束扩束
光学设计
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
科学中国人
主办单位:
中国科技新闻学会
出版周期:
半月刊
ISSN:
1005-3573
CN:
11-3292/G3
开本:
大16开
出版地:
北京市海淀区中关村大街28号海淀文化艺术
邮发代号:
82-592
创刊时间:
1995
语种:
chi
出版文献量(篇)
18375
总下载数(次)
25
总被引数(次)
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