γN相在硼酸溶液中钝化膜的组成及其半导体特性研究

• 作者: 李广宇 雷明凯
• 来源期刊: 中国腐蚀与防护学报
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体源渗氮 高氮顽心立方相 钝化膜 耐蚀性能 半导体特性
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 47-53
• 页数: 7页
• 分类号: TG156.8|TG172.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.11902/1005.4537.2016.119

摘要

采用等离子体源渗氮技术在AISI 304L奥氏体不锈钢表面制备高氮面心结构的γN相层.利用AES和XPS分析了γN相层在pH值为8.4的硼酸溶液中钝化膜的化学组成,借助Mott-Schottky方程分析了γN相层钝化膜的半导体特性.结果表明:γN相层钝化膜具有双层结构,外层由Fe、Cr氢氧化物和氧化物构成,呈现出n型半导体特性;内层主要以Cr2O3为主,呈现出p型半导体特性,并且N以FeNx和CrNx形式存在于钝化膜内.与原始不锈钢钝化膜相比,γN相层钝化膜内施主浓度和受主浓度更低,平带电位负移,说明其钝化膜致密性更好,腐蚀速率更低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷明凯		115	712	14.0	19.0
2	李广宇		4	22	2.0	4.0