锗晶片表面清洗研究进展

• 作者: 曹玲
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 锗晶片 表面清洗 表面氧化层
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 36-39
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.97
• 字数: 2042字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2018.02.009

摘要

论述了锗晶片的表面氧化机理及锗晶片表面清洗的不同方法,其中,锗晶片的清洗主要包括干法清洗和湿法清洗两种,不同清洗方法对锗表面的影响采用了XPS,AFM进行了表征.并对未来锗清洗技术的发展进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹玲	中国电子科技集团公司第四十六研究所	8	25	3.0	5.0