基于遗传算法的/Low-E膜系中透明介质膜层均匀性在线分析

• 作者: 余刚 文凯 杨中周 汪洪 王桂荣 黄星烨
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 遗传算法 柯西模型 介质膜层 Low-E膜系 均匀性
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 365-369
• 页数: 5页
• 分类号: TU201.5
• 字数: 2603字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2018.03.004

摘要

本文针对离线Low-E镀膜玻璃生产控制过程中对厚度均匀性的需求,提出依据在线测试膜层膜面反射光谱数据,建立柯西光学模型利用遗传算法分析膜层厚度均匀性的方法.采用的在线光谱测量装置安装于镀膜设备产品出口端,在镀膜玻璃宽度方向可以测量24个位置的380～780nm波长范围.研究表明在分析过程利用各点平均光谱由遗传算法分析获得膜层折射率及平均厚度,针对性地建立膜层材料在特定厚度范围内的颜色与厚度关系,在保证分析结果正确性的同时提高了数据分析效率.