制取高浓度臭氧超净水方法及其设备

• 作者: 何叶 杨波 白敏菂
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 清洗硅片表面 臭氧超净水 超窄间隙介质阻挡电离放电 等离子体源 气液溶解混合
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 页码范围: 22-25,54
• 页数: 5页
• 分类号: TN305
• 字数: 2190字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2018.05.007

摘要

采用超窄间隙介质阻挡电离放电方法将氧离解、电离、电离离解成低温氧等离子体,其中O- 和O2(a1Δg)等活性粒子在电场中反应生成高浓度臭氧O3,臭氧浓度达到286 mg/L.臭氧产生设备输出高浓度臭氧输送给气液溶解混合装置, 将高浓度臭氧强激励溶解于超净水中形成高浓度臭氧超净水,仅用3 min其浓度达到54.6 mg/L.所形成高浓度超净臭氧水将把硅片表面颗粒物、金属离子、粘附有机物、自然氧化膜等消除掉.解决硅片表面存在的质量技术问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨波	大连海事大学理学院	49	603	15.0	22.0
2	白敏菂	大连海事大学理学院	52	615	15.0	23.0
3	何叶	大连海事大学理学院	2	0	0.0	0.0