锗薄膜在低温下的折射率研究

• 作者: 周晖 张凯锋 徐嶺茂 李坤 王多书 王济洲 郑军
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Ge膜 红外光学薄膜 折射率温度系数
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 页码范围: 11-14
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 1124字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11972/j.issn.1001-9014.2018.01.003

摘要

利用电子束蒸发方法在双面抛光的ZnSe基底上镀制单层Ge薄膜.在80 K～ 300 K温度范围内,采用PerkinElmer Frontier傅里叶变换红外光谱仪低温测试系统每20 K测量Ge单层在2～15 μm波长范围的透射率.采用全光谱反演拟合方法得到Ge单层在不同温度下的折射率.结果显示,Ge单层折射率均随波长增大而减小,且变化趋势基本相同.利用Cauchy色散公式对折射率波长色散关系进行拟合,得到Ge薄膜材料折射率温度/波长色散表达式为:n(λ,T)=3.29669 +0.00015T+ 5.96834×10-6T2+ 0.41698/λ2+ 0.17384/λ4.最后,验证了Ge单层膜折射率温度/波长色散公式的准确性.