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摘要:
介绍了一种简单、新颖的微胶囊阵列制备方法.首先,通过光刻技术,在光敏聚酰亚胺光刻胶表面形成阵列化2D结构的圆形凹槽,以此作为微胶囊的模板,然后利用旋涂的方法,在微胶囊模板上进行SiO2纳米粒子自组装,SiO2纳米粒子选择性的进入模板表面的凹槽之中,再将配制好的PMMA材料旋涂在微胶囊模板表面,经过加热烘干,最终形成微胶囊阵列.这种微胶囊阵列可用于以图形化、阵列化微胶囊为先决条件的限制材料,尤其在高输出、多用途的传感器领域具有潜在的应用前景.
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文献信息
篇名 一种新颖的微胶囊阵列制备方法研究
来源期刊 化工新型材料 学科
关键词 微胶囊 阵列 凹槽 旋涂 自组装
年,卷(期) 2018,(7) 所属期刊栏目 新材料与新技术
研究方向 页码范围 101-105
页数 5页 分类号
字数 语种 中文
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微胶囊
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自组装
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化工新型材料
月刊
1006-3536
11-2357/TQ
大16开
北京安定门外小关街53号
82-816
1973
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