轰击离子能量对V2AlC MAX相涂层结构及力学性能的影响

• 作者: 程晓英 葛芳芳 赵公澍 黄峰
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 离子辅助 MAX相涂层 磁控溅射 微观结构 力学性能
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 80-87
• 页数: 8页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20181205002

摘要

采用物理气相沉积(PVD)磁控溅射沉积方法,通过改变轰击离子能量制备高密度的V2AlC涂层,并探究不同轰击离子能量对涂层结构和性能的影响.利用能谱仪测试、X射线衍射、拉曼光谱、扫描电镜、原子力显微镜对涂层的化学组成、相结构、表面与截面形貌进行分析,同时利用纳米压痕测试评价V2AlC涂层力学性能.结果 表明,提高轰击离子能量从15 eV到35 eV可以有效使得V2AlC涂层致密化,且降低涂层表面粗糙度～50％(从～20.2 nm到～11.9 nm),同时提高涂层的硬度～50％(从～14 GPa到～21 GPa),与杨氏模量～20％(从～309 GPa到～363 GPa).但当轰击离子能量升高到50 eV时,Al元素含量急剧下降,涂层由V2AlC相转变为V2C与VC多相混合.轰击离子能量的提高有效改善V2AlC涂层的结构,提高V2AlC涂层的硬度,杨氏模量,但需控制轰击离子能量改变范围才可实现结构与性能最优化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄峰	中国科学院宁波材料技术与工程研究所先进能源材料工程实验室	36	194	7.0	12.0
2	程晓英	上海大学材料科学与工程学院	27	144	6.0	11.0
3	葛芳芳	中国科学院宁波材料技术与工程研究所先进能源材料工程实验室	5	5	2.0	2.0
4	赵公澍	上海大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0