聚氨酯电子抛光垫材料的组成及形态结构研究

• 作者: 刘立志 刘紫婷 刘长伟 史颖 王连慧 马驰
• 来源期刊: 聚氨酯工业
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光法 聚氨酯 抛光垫 化学组成
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TQ323.8
• 字数: 2366字
• 语种: 中文

摘要

选取了两种用于化学机械抛光的聚氨酯抛光垫,通过红外光谱、差示扫描量热分析(DSC)、热重分析(TGA)及扫描电子显微镜(SEM)等手段研究了两者在组成及形态结构上的区别.结果表明,与国产抛光垫不同,日本产抛光垫在酯醚共聚聚氨酯基体的基础上还添加有氧化锆粒子,并且日本产抛光垫的规整性更好,孔洞尺寸更加均一,研究结果对我国电子抛光产业的发展具有重要意义.