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IPA干燥过程中影响颗粒因素的研究
IPA干燥过程中影响颗粒因素的研究
作者:
孙文良
盛明俊
葛俊山
蔡万和
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
IPA
异丙醇
颗粒
Marangnoi
摘要:
本文是采用Marangoni效应来实现抛光硅片的干燥过程遇到的颗粒问题,并对其影响因素进行研究.研究过程中,可以在IPA携带N2压力为15PSI,DI水慢排速率为1mm/s,慢排完毕后IPA喷雾持续时间为180S,热N2压力为10PSI的情况下,得到的干燥效果最佳.
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文献信息
篇名
IPA干燥过程中影响颗粒因素的研究
来源期刊
中国集成电路
学科
关键词
IPA
异丙醇
颗粒
Marangnoi
年,卷(期)
2019,(3)
所属期刊栏目
工艺
研究方向
页码范围
44-47,92
页数
5页
分类号
字数
2519字
语种
中文
DOI
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姓名
单位
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孙文良
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异丙醇
颗粒
Marangnoi
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
中国集成电路
主办单位:
中国半导体行业协会
出版周期:
月刊
ISSN:
1681-5289
CN:
11-5209/TN
开本:
大16开
出版地:
北京朝阳区将台西路18号5号楼816室
邮发代号:
创刊时间:
1994
语种:
chi
出版文献量(篇)
4772
总下载数(次)
6
总被引数(次)
7210
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