改进电沉积法制备高硅Ni?Si纳米复合镀层的结构、压痕和腐蚀特性

• 作者: Alireza TEYMURI Morteza ALIZADEH
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 关键词: 复合镀层 电沉积 结构 腐蚀行为 显微硬度
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 608-616
• 页数: 9页
• 字数: 405字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(19)64970-8

摘要

以含有球磨Si/Ni颗粒的电解质为原料,采用改进的电沉积工艺制备不同硅含量的Ni?Si纳米复合镀层.研究电解液中球磨Si/Ni颗粒浓度对镀层的硅含量、结构、显微硬度和腐蚀行为的影响.采用扫描电镜和X射线分析仪对其结构进行表征,并对镀层的显微硬度和腐蚀行为进行评估.结果表明,镀层中硅的最高含量可达近10 wt.％,这是电沉积中硅的重要掺入量.随着硅含量的增加,镀层的晶粒尺寸逐渐减小,硬度增加.其中,Ni?10wt./％Si镀层的晶粒尺寸和显微硬度分别是纯Ni涂层的0.39倍和2.1倍.结果还表明,镀层的硅含量存在一个最佳值,此时其耐酸性腐蚀性能最佳.