砷化镓衬底加工技术研究及其新发展

• 作者: 罗斌 阎秋生
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 砷化镓 研磨 化学机械抛光 表面完整性 磨削
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 页码范围: 57-66
• 页数: 10页
• 分类号: TN305.2|TG58
• 字数: 7615字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2019.5.0011

摘要

第二代半导体砷化镓(GaAs)材料是衬底外延生长和器件制备的基础材料,其晶片表面要求超光滑、无表面/亚表面损伤和低的残余应力等,且其表面平坦化质量决定了后续外延层的质量,并最终影响相关器件的性能.通过归纳分析砷化镓单晶材料的本征特性及其切割、磨边、研磨、抛光等技术的研究进展,对砷化镓超光滑平坦化加工技术未来的研究方向进行展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阎秋生	广东工业大学机电工程学院	146	787	13.0	20.0
2	罗斌	广东工业大学机电工程学院	4	5	1.0	2.0