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InSb/HfO2堆栈在原位退火过程中利用同步辐射光电子能谱对元素扩散的研究
InSb/HfO2堆栈在原位退火过程中利用同步辐射光电子能谱对元素扩散的研究
作者:
史笑然
孙勇
王星录
董红
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
同步辐射光电子能谱
InSb/HfO2堆栈
原子层沉积
退火
扩散
摘要:
InSb作为重要的Ⅲ-Ⅴ族半导体材料已经应用在光电探测器、中红外激光器等领域,但InSb与氧化物的界面质量对制造高性能器件仍然至关重要.通过对InSb/HfO2堆栈在300和400℃下原位退火来系统地研究其热稳定性.为了研究InSb/HfO2堆栈衬底元素的扩散,利用原子层沉积技术沉积了大约5 nm厚的HfO2薄膜,通过光子能量为750和600 eV的同步辐射光电子能谱来进行表征时只能探测到堆栈界面以上部分的元素信息.研究发现对HCl预处理和天然氧化样品,In氧化物的扩散分别发生在300和400℃退火后,Sb氧化物的扩散现象只在原子层沉积之后的HCl预处理样品上被发现.本工作强调了为提高InSb器件性能而对界面进行有效钝化的紧迫性.
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文献信息
篇名
InSb/HfO2堆栈在原位退火过程中利用同步辐射光电子能谱对元素扩散的研究
来源期刊
真空电子技术
学科
工学
关键词
同步辐射光电子能谱
InSb/HfO2堆栈
原子层沉积
退火
扩散
年,卷(期)
2019,(6)
所属期刊栏目
工艺与实验
研究方向
页码范围
94-97,105
页数
5页
分类号
TN101
字数
3328字
语种
中文
DOI
10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2019.06.15
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
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1
王星录
南开大学电子信息与光学工程学院
2
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董红
南开大学电子信息与光学工程学院
2
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孙勇
南开大学电子信息与光学工程学院
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南开大学电子信息与光学工程学院
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研究主题发展历程
节点文献
同步辐射光电子能谱
InSb/HfO2堆栈
原子层沉积
退火
扩散
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
主办单位:
北京真空电子技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-8935
CN:
11-2485/TN
开本:
大16开
出版地:
北京749信箱7分箱
邮发代号:
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
总被引数(次)
8712
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