CMP光学终点在线实时判定方法研究

• 作者: 卫银杰 狄韦宇 郑永军
• 来源期刊: 中国计量大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 计量 光强光谱 化学机械抛光 特征值
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 所属期刊栏目: 计量与测试
• 页码范围: 308-316
• 页数: 9页
• 分类号: TB96
• 字数: 4218字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2096-2835.2019.03.008

摘要

目的:通过研究光强光谱提取相应特征值作为化学机械抛光(CM P)终点监测判定方法.方法:首先由Q E PRO光谱仪测得光强光谱,再通过移动平均滤波对信号进行滤波降噪,从处理后的信号中提取相应的信号特征值,并用两组数据对特征值进行分析以排除偶然性.结果:所发现的特征值:某一波峰与左拐点的波长差,具有良好的线性关系,并且计算量小,计算速度快.结论:发现的特征值可以作为CM P终点监测判定方法之一.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑永军	中国计量大学计量测试工程学院	40	272	8.0	15.0
2	狄韦宇	中国计量大学计量测试工程学院	2	0	0.0	0.0
3	卫银杰	中国计量大学计量测试工程学院	1	0	0.0	0.0