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摘要:
在硅片研磨加工过程中,为保证硅片加工厚度的一致性,引入了在线监控仪,但在线监控仪在加工厚度大于1 600 μm以上的硅片时,在线监控仪就很难准确地测出晶片的厚度.通过使用目前的在线监控仪及增加辅助金属片的方式,使在线监控仪在研磨过程中能准确地测出超厚晶片的加工厚度.
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文献信息
篇名 在线监控仪在加工超厚晶片中的应用
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 硅片 研磨 在线监控
年,卷(期) 2019,(5) 所属期刊栏目 半导体制造工艺与设备
研究方向 页码范围 17-20
页数 4页 分类号 TN305.1
字数 1547字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘玉岭 中国电子科技集团公司第四十六研究所 9 51 3.0 7.0
2 邢友翠 中国电子科技集团公司第四十六研究所 4 2 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
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2008(1)
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研究主题发展历程
节点文献
硅片
研磨
在线监控
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
总下载数(次)
31
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