Li/V包层MHD绝缘涂层的研究现状与展望

• 作者: 万发荣 张高伟 韩文妥
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: Li/V自冷系统包层 MHD压降 绝缘涂层 AlN复合绝缘涂层
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 348-356
• 页数: 9页
• 分类号: TB333
• 语种: 中文

摘要

绝缘涂层是解决液态氚增殖剂包层磁流体动力压降(magnetohydrodynamic pressure drop,MHD)的一种行之有效的方法.本文着重介绍了应用于Li/V自冷系统包层的CaO,Y2O3,Er2O3和A1N等几种候选绝缘涂层的稳定性研究、制备方法.研究表明,以Er2O3、AlN等为代表的若干种候选绝缘材料并没有表现出理论上的稳定性,这使得绝缘涂层的研究重心逐渐从单层绝缘涂层转向了复合绝缘涂层.然而,目前以“钒合金/绝缘层/金属层”结构为代表的复合绝缘涂层(如“V-alloy/Er2O3/V”等)虽表现出了较好的稳定性和足够的绝缘性,但也存在着一些明显的缺点,如无法实现原位制备及原位修复,制备工艺难以应用到大型的具有复杂形状的部件等.未来的工作可以着重设计和制备更有应用潜力的双层或多层绝缘涂层.作者提出了“钒合金/金属/绝缘层”结构的复合绝缘涂层,如“V-alloy/Ti/AlN”,其优点之一就是有潜力可以实现原位制备和原位修复,还可能兼具优异的阻氢性能,因而具有一定的研究意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	万发荣		65	602	12.0	23.0
2	韩文妥		8	4	1.0	2.0
3	张高伟		4	2	1.0	1.0