混合磨粒CMP抛光液的制备及抛光效果研究

• 作者: 付慧坛 刘军 耿伟纬 蔡金凤 贺祥 高爽
• 来源期刊: 河南化工
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 CMP抛光液 混合磨粒 表面粗糙度 光泽度
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 所属期刊栏目: 开发与研究
• 页码范围: 19-21
• 页数: 3页
• 分类号: TQ423
• 字数: 2381字
• 语种: 中文

摘要

为提高CMP的抛光效果,配制了一种混合磨粒CMP抛光液,用于对不锈钢的抛光.实验结果表明:硅溶胶和铝溶胶配比为4:1,使用十二烷基硫酸钠为阴离子表面活性剂,调节pH值为2.5配制的抛光液的分散稳定性较好;采用上述抛光液对304号不锈钢进行抛光,其粗糙度和光泽度得到明显提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘军	河南工业大学材料科学与工程学院	9	6	2.0	2.0
2	贺祥	河南工业大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
3	高爽	河南工业大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
4	耿伟纬	河南工业大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
5	蔡金凤	河南工业大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0
6	付慧坛	河南工业大学材料科学与工程学院	6	16	2.0	4.0