基于气相法SiO2制备高光泽微孔型成像涂膜的研究

• 作者: 王宗磊 王宪委 王显印
• 来源期刊: 精细与专用化学品
• 学科: 工学
• 关键词: 气相法二氧化硅 聚乙烯醇 微孔薄膜
• 年，卷（期）: 2019,（6）
• 所属期刊栏目: 技术进展
• 页码范围: 39-41
• 页数: 3页
• 分类号: TQ437
• 字数: 1988字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19482/j.cn11-3237.2019.06.12

摘要

以气相法二氧化硅(SiO2)为成孔介质,高聚合度聚乙烯醇(PVA)为成膜物制备了高光泽微孔型涂膜,讨论了硅烷偶联剂KH-790用量、PVA聚合度、AlCl3用量等对微孔成膜及其光泽度、成像耐水性的影响.采用纳米粒径分析仪、打印机,色密度计、光泽度计等对其进行了表征分析.结果 表明,KH-790可有效实现气相法SiO2表面改性与分散;交联剂聚酰胺聚脲(PAPU)和AlCl3配合使用可有效实现高聚合度PVA的交联,并降低PVA的交联温度,实现该类微孔型介质涂膜在高分子合成纸上的应用,并制备高光泽微孔型吸墨打印合成纸.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王宪委		4	2	1.0	1.0
2	王显印		3	2	1.0	1.0
3	王宗磊		3	2	1.0	1.0