原子层沉积技术在能源存储和转换材料中的应用

• 作者: 丁书江 寇华日 李喜飞 王珂
• 来源期刊: 河北工业大学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 原子层沉积技术 薄膜材料 锂离子电池 锂硫电池 燃料电池
• 年，卷（期）: 2020,（1）
• 页码范围: 1-17,25
• 页数: 18页
• 分类号: O6-1
• 字数: 13547字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14081/j.cnki.hgdxb.2020.01.001

摘要

为了应对日益加重的能源危机和环境污染问题,二次能源技术得到了越来越多的重视,发展新一代能源材料是其中的关键.原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition,ALD)是一种有效的材料沉积和表面改性技术.ALD技术在基底表面沉积的薄膜具有致密、均一的特点,并且能够有精确控制微纳米级至亚纳米级厚度的薄膜的生长.该技术能够制备多种具有优良特性的金属单质、金属氧化物、金属硫化物、金属氮化物薄膜材料,因而在众多方面得到了研究应用.本文简要介绍了原子层沉积技术的相关原理,在锂离子电池、锂硫电池和燃料电池方面的应用成果,并对原子层沉积技术在能源存储和转化材料中的应用前景进行了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王珂	西安交通大学理学院	30	260	8.0	15.0
2	丁书江	西安交通大学理学院	10	49	4.0	6.0
3	李喜飞	天津师范大学物理与材料科学学院	7	4	2.0	2.0
5	寇华日	天津师范大学物理与材料科学学院	1	0	0.0	0.0