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摘要:
GaN(氮化镓)属于第三代半导体材料(又称为宽禁带半导体材料)。GaN的禁带宽度、电子饱和迁移速度、击穿场强和工作温度远远大于Si和GaAs,具有作为电力电子器件和射频器件的先天优势。
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质子
氮化镓
位移损伤
Geant4
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 氮化镓市场空间持续拓展
来源期刊 半导体信息 学科 工学
关键词 宽禁带半导体材料 电力电子器件 氮化镓 射频器件 GaN 击穿场强 迁移速度 第三代半导体材料
年,卷(期) bdtxx_2020,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 32-32
页数 1页 分类号 TN3
字数 语种
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研究主题发展历程
节点文献
宽禁带半导体材料
电力电子器件
氮化镓
射频器件
GaN
击穿场强
迁移速度
第三代半导体材料
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体信息
双月刊
16开
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东
1990
chi
出版文献量(篇)
5953
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11
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