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摘要:
以电子产品常用的T2紫铜作为基体进行化学镀锡.通过改变沉积时间,制备了厚度为0.5~4.2μm的锡镀层.采用扫描电镜分析了锡镀层的微观形貌,采用电化学工作站测试了锡镀层的和紫铜的交流阻抗谱,对耐腐蚀性能进行比较.结果表明:紫铜表面化学镀锡后,其耐腐蚀性能得到改善.沉积时间对锡镀层的微观形貌和耐腐蚀性能有一定影响;随着沉积时间从3 min延长至70 min,锡镀层的微观形貌发生变化,耐腐蚀性能经历了先变好后变差的过程;沉积时间为55 min时制备的锡镀层中主要含有Sn、Cu和C元素,含量分别为89.48%、3.72%、6.80%,各元素均匀分布,其耐腐蚀性能最好.
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文献信息
篇名 铜质电子产品表面化学镀锡研究
来源期刊 电镀与精饰 学科 工学
关键词 化学镀锡 沉积时间 锡镀层厚度 微观形貌 耐腐蚀性能
年,卷(期) 2020,(3) 所属期刊栏目 电子电镀
研究方向 页码范围 39-42
页数 4页 分类号 TQ153
字数 2250字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-3849.2020.03.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李祥 11 13 2.0 3.0
2 李培英 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
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化学镀锡
沉积时间
锡镀层厚度
微观形貌
耐腐蚀性能
研究起点
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引文网络交叉学科
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电镀与精饰
月刊
1001-3849
12-1096/TG
大16开
天津市河东区新开路美福园2号楼1门102
18-145
1973
chi
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