氢、氧原子刻蚀CVD金刚石涂层石墨相的机理研究

• 作者: 何嘉诚 王俊鹏 简小刚 黄新
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: 第一性原理 刻蚀机理 吸附过程 反应热 反应能垒
• 年，卷（期）: 2020,（2）
• 页码范围: 17-21
• 页数: 5页
• 分类号: TQ164
• 字数: 2757字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2020.2.0003

摘要

采用第一性原理分子模拟计算方法对氢、氧原子刻蚀石墨相的过程进行分子动力学仿真,分析了2种原子在石墨相上的吸附过程及刻蚀反应的反应热和反应能垒.结果表明:氧原子在石墨相表面的吸附能强于氢原子吸附能,同时氧原子的化学反应活性大于氢原子的,更容易在石墨结构表面发生电子转移反应;氢原子促使石墨相表面的C—C键断裂需要两步反应,而氧原子则只需要一步反应,氢原子刻蚀石墨相的反应能垒比氧原子的高,所需能量更多.同时,通入含氧气源可以有效降低CVD金刚石涂层的沉积温度,提高金刚石涂层的质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	简小刚	同济大学机械与能源工程学院	29	288	6.0	16.0
2	何嘉诚	同济大学机械与能源工程学院	3	2	1.0	1.0
3	王俊鹏	同济大学机械与能源工程学院	4	2	1.0	1.0
4	黄新	同济大学机械与能源工程学院	2	0	0.0	0.0