O2/Ar流量比及退火对氧化锆薄膜结构及摩擦学性能的影响

• 作者: 许文举 鞠鹏飞 李红轩 吉利 刘晓红 陈建敏
• 来源期刊: 中国表面工程
• 关键词: 多弧离子镀 氧化锆薄膜 退火处理 力学性能 摩擦学性能
• 年，卷（期）: 2020,（5）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究|Surface Engineering Research
• 页码范围: 65-74
• 页数: 10页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20200715001

摘要

采用多弧离子镀(MAIP)方法在Inconel 718高温合金基体上沉积了氧化锆(ZrOx)薄膜,并对该薄膜进行了800 ℃退火处理;研究了O2/Ar两种气体流量比Ro2/Ar(0.25、0.43、0.67、1.00、1.50)及退火处理对沉积态薄膜的微观结构、力学性能及摩擦学性能的影响.结果表明:随着Ro 2/Ar从0.25升高到1.50,沉积态薄膜的主要物相组成由不稳定的锆的氧化物(h-ZrO0.35、h-ZrO2、h-Zr3O)逐渐转变为稳定的m-ZrO2,薄膜截面结构由起初疏松的柱状晶逐渐转变为排列致密的柱状晶,薄膜硬度逐渐升高,O2/Ar比为1.50时最大为16.7 GPa.低Ro2/Ar,下沉积的薄膜摩擦学性能很差,很快磨穿失效.当Ro2/Ar,超过0.67时,薄膜的摩擦寿命显著提高,Ro2/Ar为1.50时薄膜磨损率最低为1.45×10-6 mm3/(N·m).沉积态薄膜经过退火处理后主要物相转变为m-ZrO2,薄膜表面变得更加光滑致密,薄膜硬度、弹性模量以及摩擦学性能均较退火前明显改善.