表面微结构的高响应度Si基近红外光电探测器

• 作者: 唐玉玲 夏少杰 陈俊
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 工学
• 关键词: Si 光电探测器 微结构 近红外光 响应度
• 年，卷（期）: 2020,（4）
• 页码范围: 417-421
• 页数: 5页
• 分类号: TN215|TN362
• 字数: 2871字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11972/j.issn.1001-9014.2020.04.004

摘要

为了使Si基光电探测器应用到近红外光波段,需要提升其对光的响应度.通过等离子体光刻在硅基光电探测器表面制备规则有序的微结构阵列,另外通过原子层沉积(ALD)在微结构表面生长一层Al2O3膜,研究它的抗反射和钝化作用.对比测量器件的表面反射率和I-V特性曲线,并计算器件在808 nm近红外光下的光响应度.通过计算发现器件的响应度由最初的0.063 A/W提高到0.83 A/W.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈俊	苏州大学电子信息学院	27	154	7.0	11.0
2	唐玉玲	苏州大学电子信息学院	1	0	0.0	0.0
3	夏少杰	苏州大学电子信息学院	1	0	0.0	0.0