MPCVD单晶金刚石高速率和高品质生长研究进展

• 作者: 代兵 刘康 刘雪冬 张森 曹文鑫 朱嘉琦 李一村 杨磊 王伟华 舒国阳 赵继文 郝晓斌 韩杰才
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: MPCVD单晶金刚石 高速率 高品质
• 年，卷（期）: 2020,（6）
• 所属期刊栏目: 声光电磁晶体材料专栏
• 页码范围: 979-989
• 页数: 11页
• 分类号: O782
• 字数: 8175字
• 语种: 中文

摘要

微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)技术被认为是制备大尺寸高品质单晶金刚石的理想手段之一.然而其较低的生长速率(～10μm/h)以及较高的缺陷密度(103～107 cm-2)是阻碍MPCVD单晶金刚石应用的主要因素,经过国内外研究团队数十年的不懈努力,在高速率生长和高品质生长两个方面都取得了众多成果.但是除此之外还需解决高速率与高品质生长相统一的问题,才能实现MPCVD单晶金刚石的高端应用价值.