介电泳效应磨粒流抛光中的电极形态

• 作者: 吕冰海 张学良 王旭 袁巨龙 邓乾发 郑涛
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: 磨粒 介电泳效应 抛光 陶瓷 内表面
• 年，卷（期）: 2020,（23）
• 所属期刊栏目: 机械基础工程
• 页码范围: 2822-2828
• 页数: 7页
• 分类号: TH161
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-132X.2020.23.006

摘要

针对薄壁陶瓷工件内表面抛光,提出一种基于介电泳效应的磨粒流抛光方法.将非均匀电场布置于陶瓷工件外表面,极化磨粒,实现陶瓷工件内表面高效抛光.仿真分析发现:电极间隙比为2时,SiC磨粒具有最好的介电泳效应,参与抛光的磨粒最多.陶瓷工件初始内表面粗糙度值Ra为(208±5)nm时,抛光10 h后,无介电泳效应的磨粒流抛光工件内表面粗糙度值Ra为51 nm,有介电泳效应的磨粒流抛光工件内表面粗糙度值Ra为23 nm.