二氧化硅阶梯状薄膜热阻层微纳制备工艺研究

• 作者: 周晨飞 杨明杰 梁军生
• 来源期刊: 机电工程技术
• 学科: 工学
• 关键词: 热流传感器 热阻层 溅射 湿法腐蚀 SiO2
• 年，卷（期）: 2020,（9）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 7-9
• 页数: 3页
• 分类号: TN305
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9492.2020.09.002

摘要

在高温薄膜式热流传感器结构中,热阻层台阶的高度是影响热流传感器输出的重要因素.在热阻层的制备工艺中,需要精准控制台阶的高度和整体薄膜的厚度.目前常用的制备方法为溅射-湿法腐蚀和溅射-湿法腐蚀-溅射两种方法.选用电绝缘性高、硬度高、热导率低的SiO2作为热阻层材料,分析了限制热阻层台阶高度的因素,确定了高台阶的高度低于6μm,低台阶的高度高于500 nm.研究了两种热阻层台阶的制备方法的适用条件,分析了两种方法的优缺点,发现溅射-湿法腐蚀仅适用于基底粗糙度较低的薄膜,溅射-湿法腐蚀-溅射的方法不受粗糙度的限制,但需加宽掩膜板以防止侧蚀损坏薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁军生		23	53	4.0	6.0
2	周晨飞		2	2	1.0	1.0
3	杨明杰		2	0	0.0	0.0