衬底温度对NiFe2O4薄膜生长和磁学性能的影响

• 作者: 刘伟达 姬雪蕾 孙德烨 庄澔淼 王丽丽 王晶
• 来源期刊: 产业与科技论坛
• 关键词: NiFe2O4薄膜 基片温度 氧气分压 微观结构 磁学性能
• 年，卷（期）: 2020,（14）
• 所属期刊栏目: 科技创新
• 页码范围: 63-64
• 页数: 2页
• 字数: 1154字
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射方法,保持Ar气流量不变,控制O2气在Ar气与O2气混合气体在Ar/O2=30sccm/90sccm的情况下,采用STO(100)单晶基片制备了FNO薄膜.利用XRD和VSM等测试手段,对STO(100)单晶基片生长的不同基片温度FNO薄膜的结构及磁学性能进行表征.测试结果表明,在STO(100)单晶基片上不同基片温度得到了NiFe2 O4薄膜,随着基片的温度增大,样品的矫顽力Hc先增大后减小,基片温度为650摄氏度时,矫顽力最大,Hc=1244.7Oe.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王丽丽	长春大学理学院	49	108	6.0	8.0
2	孙德烨	长春大学理学院	2	1	1.0	1.0
3	庄澔淼	长春大学理学院	1	0	0.0	0.0
4	姬雪蕾	长春大学理学院	1	0	0.0	0.0
5	王晶	长春大学理学院	2	0	0.0	0.0
6	刘伟达		2	0	0.0	0.0