晶硅异质结太阳电池表面三层减反膜的设计与分析

• 作者: 施凯莹 韩少文 林本才 孙喜莲
• 来源期刊: 光学学报
• 关键词: 薄膜 三层减反膜 ITO 晶硅异质结太阳电池 加权平均反射率 光学损耗
• 年，卷（期）: 2020,（24）
• 所属期刊栏目: 薄膜|Thin Films
• 页码范围: 204-211
• 页数: 8页
• 分类号: O436
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS202040.2431001

摘要

晶硅异质结太阳电池表面的减反层是ITO薄膜,其低的紫外透过率、高的近红外光学损耗限制了电池效率的提升.为此,本文设计了三层减反膜来减小ITO薄膜的光学损耗.利用光学薄膜膜系设计软件TFCalc、光线追迹程序(OPAL 2)和太阳电池模拟软件PC1D对三层减反膜的光学性能和相应电池的电学性能进行了模拟和分析,并对折射率色散效应、晶硅表面形貌以及各膜层的厚度容差进行了讨论.结果表明:考虑折射率色散效应的=层减反膜比ITO薄膜的寄生吸收更小,减反射带宽更大;绒面硅表面减反膜比平面硅表面减反膜的加权平均光学损耗降低了2.43个百分点,相应电池的短路电流密度和转换效率分别提高了0.82 mA/cm2和0.34个百分点;减反膜中低折射率的SiO,膜层具有更大的厚度容差范围.