液相外延设备温度控制系统研究

• 作者: 李瑫 程文进 黄志海 杨勇 陈李松
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 液相外延设备 温度控制 串级PID控制 动态参数调整
• 年，卷（期）: 2021,（1）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 8-11,56
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.054
• 语种: 中文

摘要

水平液相外延设备是目前生产碲镉汞薄膜材料的主要设备,其温度控制的精度、温度场的均匀性等是设备的关键性能指标.为了满足液相外延设备对温度控制的要求,设计了多段独立控制的加热系统,并采用串级控温方式对炉体中反应管內温度进行精准控制;通过在不同加热阶段对串级参数进行动态调整,提升反应管內温度的动态跟随性能;开发了设备控制软件并对温度控制性能进行了测试.结果表明,该温度控制系统可以满足不同加热阶段的不同功率要求,温度控制的精度、恒温区均匀性以及动态跟随性能等均符合工艺技术要求,并在液相外延设备上成功应用.