基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
在碳化硅MOSFET大范围应用下,其开关瞬态过程愈发引人关注.由于碳化硅比起硅器件有更高的开关频率,因此其开关特性受到结电容和杂散电感的影响.对碳化硅MOSFET开关过程进行瞬态分析,推导了它的开关模型.通过开关模型提取出其电压变化率和电流变化率,在考虑杂散参数的基础之上寻找其与电压及电流变化率之间的联系.仿真及实验通过搭建buck电路平台,测试其开通和关断波形,提取出开关过程各阶段电压电流的变化率,进一步验证理论分析过程和模型建立的准确性.
推荐文章
碳化硅及碳化硅制品
碳化硅
粉体合成
碳化硅制品
一种1 200 V碳化硅沟槽MOSFET的新结构设计
碳化硅
TSN结构
特征导通电阻
特征栅漏电容
碳化硅晶片的制备技术
碳化硅晶片
双重加热炉
碳化硅晶须
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 碳化硅MOSFET开关瞬态模型
来源期刊 电子设计工程 学科 工学
关键词 碳化硅MOSFET 开关模型 电压电流变化率 杂散参数
年,卷(期) 2021,(1) 所属期刊栏目 电力电子技术
研究方向 页码范围 152-156
页数 5页 分类号 TN7
字数 语种 中文
DOI 10.14022/j.issn1674-6236.2021.01.032
五维指标
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (54)
共引文献  (63)
参考文献  (16)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1994(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2003(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2004(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2005(4)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(4)
2006(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2007(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2008(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2009(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2010(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2011(5)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(5)
2012(7)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(7)
2013(11)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(9)
2014(6)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(4)
2015(10)
  • 参考文献(7)
  • 二级参考文献(3)
2016(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2017(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2018(4)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(4)
2019(2)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(1)
2020(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2021(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
碳化硅MOSFET
开关模型
电压电流变化率
杂散参数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子设计工程
半月刊
1674-6236
61-1477/TN
大16开
西安市高新区高新路25号瑞欣大厦10A室
52-142
1994
chi
出版文献量(篇)
14564
总下载数(次)
54
总被引数(次)
54366
论文1v1指导