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摘要:
超纯水是应用去离子化、反渗透技术、离子交换等技术生产出来的水.针对集成电路生产用水水质要求高的现状,设计开发了超纯水系统,设计采用Make up system+Polisher system组合工艺,制备电阻率>18 MΩ·cm;DO<5 ppb;Particle<1 pcs/ml;Silica<1.5 ppb;TOC<1.5 ppb的超纯水.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 电子工业用超纯水设备技术及应用
来源期刊 清洗世界 学科
关键词 电子工业 超纯水 技术 应用
年,卷(期) 2021,(3) 所属期刊栏目 环保节能
研究方向 页码范围 66-69
页数 4页 分类号 TU991.2
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-8909.2021.03.032
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1995(1)
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研究主题发展历程
节点文献
电子工业
超纯水
技术
应用
研究起点
研究来源
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研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
清洗世界
月刊
1671-8909
11-4834/TQ
大16开
北京空港工业B区安祥路5号
2-640
1985
chi
出版文献量(篇)
4408
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7
总被引数(次)
7347
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