KBr晶体的生长及加工工艺研究

• 作者: 姚世龙 徐硕 李永吉 张恩浩 李永涛 李永菊 黄德馨 刘景和
• 来源期刊: 吉林建筑大学学报
• 关键词: KBr 晶体生长 硬度 透过率 晶体加工
• 年，卷（期）: 2021,（4）
• 所属期刊栏目: 工程科技|Engineering science & technology
• 页码范围: 50-55,64
• 页数: 7页
• 分类号: TH706
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-0185.2021.04.009

摘要

采用电阻加热Czochralski法和一控双变技术,在最佳工艺参数(转速:6 r/min～8 r/min;拉速:1 mm/h～2 mm/h;循环水温度:28℃ ±1℃;降温速率:8℃/h～10℃/h;轴向温度梯度:1℃/mm～2℃/mm)条件下,生长出了Φ96 mm×30 mm的KBr晶体.分析了晶体的潮解机理,采用饱和溶液对KBr晶体进行抛光,分析抛光压力、抛光盘转速、抛光液流量和抛光时间对晶体表面去除率和粗糙度的影响,得到最佳的抛光参数:最佳压力为0.1042 MPa、抛光液流量为15 mL/min、抛光盘转速为30 r/min和抛光时间为20 min.对抛光后的晶体元件透过性能测试表明,厚度为4 mm晶体的透过率为90.2％,在透过波段存在一定吸收.