位错三维表征技术

• 作者: 符锐 冯宗强 黄晓旭
• 来源期刊: 中国材料进展
• 关键词: 位错 三维表征 同步辐射X射线 电子通道衬度成像 透射电子显微镜 体视学成像 三维位错晶体学
• 年，卷（期）: 2021,（6）
• 所属期刊栏目: 青年园地|Young Researcher's Field
• 页码范围: 417-426
• 页数: 10页
• 分类号: TG113|TG115.21+3
• 语种: 中文
• DOI: 10.7502/j.issn.1674-3962.202103019

摘要

位错的三维表征是准确认识位错特性和行为的基础.综述了基于同步辐射X射线、聚焦离子束-电子通道衬度成像系统和透射电子显微镜的位错三维重构方法,重点介绍了基于透射电子显微镜的原子分辨率位错三维重构、体视学原理位错三维重构和系列倾转位错三维重构方法的技术原理和应用实例,对比讨论了上述技术在分辨率、定量表征和参量信息耦合能力方面的优缺点,随后介绍了一种基于透射电子显微镜、可以实现位错几何和晶体学特征参量高精度耦合表征的位错三维定量集成表征技术,并在此基础上总结和展望了未来各类位错三维表征技术的发展趋势和技术特点.